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浮力提拉单晶炉提拉机构特性分析\一、引言 浮力提拉单晶炉(简称FTD)是利用浮力原理设计成的提拉式单晶炉帕,十多年来,用它先后生长成功了多种晶体〔2一5〕。这种炉子容易制造,成本低,易于推广,目前国内已有几个厂家使用它生产泥酸铿单晶。作为一种发明,FTD也受到肯定和重视。可是,FTD在问世以后,却没有进行深入探讨。虽然FTD的设计有过几次变化,但由于没有掌握设计的则,致使FTD存在不同程度的提拉不均匀现象,严重地影响了它的推广普及。为了改善它的提拉特性,我们研究了FTD浮力提拉原理,对多台FTD作了分析对比,由此找出了提拉不均匀性产生的根源;明确了FTD提拉机构的设计要领。希望这-一卜作能够推动FTD的发展.并有助于单晶的生长研究和生产。二、FTD浮力提拉原理、提拉不均性的产生习C^l 奋幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。}

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其中,直接有效的方法是提高生产时效,增加单炉的月产能。笔者长期从事单晶生产工作,经调研与现场试验,采用离线装料技术不仅可以缩短运行周期、提高工作效率,而且可以确保坩埚内所装硅料的洁净度,具有较强的实用性和经济推广价值。1离线装料的工作原理使用一个真空吸盘和一个特制的密封圈与装满多晶硅原生料的石英坩埚密封,分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，半导体级直拉法的工艺控制\进入21世纪以来,随着新兴产业的科技创新,半导体行业得到了的发展。半导体产业发展迅猛,尤其近几年,大力发展半导体产业,缩短该行业与世界水平的差距。目前虽然有许多新兴材料来替代硅材料,但未来几年可以预见,硅材料由于其成熟的技术品质和稳定的物理化学性质,将会在相当长的一段时间里是主流材料。硅单晶作为主要材料,应用的领域也是相当广泛的。硅单晶是由多晶硅原料经过物理变化,让硅原子按照人为设定的方向进行生长,终形成的。一般会采用直拉法进行制备。晶圆的直径越大,集成电路制造的成本将会越低,因此要求作为材料的硅单晶的直径也要相应的增大。这里面涉及到了一系列问题。这篇论文主要讨论的是通过对热场的设计,工艺的过程控制,减少位错的产生,以及通过化学腐蚀对位错进行检测的相关问题。