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DL-78型单晶炉的热场和减压工艺\1前言集成电路生产的发展一方面不断缩小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不断扩大硅片直径以减少芯片的离故度和降低成本。相应地，作为集成电路基础材料的硅单晶生产也在不断地提高其技术质量指标和增大单晶锭的直径和长度，以满足电路的要求和降低自身的生产成本。在国外市场上，硅晶体直径大致每4～5年增长1时（25．4mm），相应地，生产投料重也由1公斤逐渐发展为3～5公斤、8～12公斤、15～刘公斤和朋～6O公厅等几个等级。在这发展中，有两个条件是相辅相成、共同进步的，这是单晶炉和拉晶工艺。

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单晶炉的结构及基本操作;炉子本体包括机架、坩埚驱动装置、主炉室、翻板阀、副炉室、籽晶提升机构、液压驱动装置、真空系统、冲系统及水冷系统。机架由底座、上立柱和下立柱组成，是炉子的支撑装置。的光伏产业凭借着自身的努力，经过几年的发展，在综合实力上地位。的光伏自造产业，在帮助其他和地区实现节能减排的同时，有足够的能力来帮助实现自身能源结构的调整。分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，为了方便副炉室3移动到取晶位，并方便副炉室3的拆解、清理，连续拉晶单晶炉还包括副炉室升降驱动装置12和副炉室旋转驱动装置13，所述所述副炉室3通过副炉室旋臂14连接在副炉室升降驱动装置12上，以便通过副炉室升降驱动装置12驱动副炉室旋臂14升降，并通过副炉室旋臂14带动副炉室3升降，所述副炉室旋转驱动装置13连接在副炉室升降驱动装置12和副炉室旋臂14之间，以便使得副炉室旋转驱动装置13随副炉室旋臂14一起升降，并通过副炉室旋转驱动装置13驱动副炉室旋臂14旋转，副炉室旋臂14又带动副炉室3旋转。