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如果圆柱体放在线圈，那么圆柱体周边的温度是一样的，圆柱体加热和熔化也没有产生有害气体、强光污染环境。中频炉广泛用于有色金属的熔炼[主要用在熔炼钢、合金钢、特种钢、铸铁等黑色金属材料以及不锈钢、锌等有色金属材料的熔炼，也可用于铜、铝等有色金属的熔炼和升温，保温，并能和高炉进行双联运行。]、蓝宝石长晶炉回收，多晶硅铸锭炉回收，提拉式长晶炉回收，多晶长晶炉回收，卧式长晶炉回收，拉式单晶炉、收购直拉式单晶炉-85型/90型/95型/100型种种整套单晶回收提炉装备、分子泵回收，真空泵回收，真空流量计回收，plc编程回收，控制屏回收，离子泵回收，涡轮分子泵回收，螺杆真空泵回收，涡旋高真空泵回收，具体地，为了减小螺钉16的上端部与上减震橡胶垫172之间的压强，进而延长上减震橡胶垫172的使用寿命，所述螺钉16的上端部和上减震橡胶垫172之间设置有垫片173。在本实施例中，所述螺钉16设置有四个，为了当不再继续加料时，可以更方便地将外部化料器7提升不干涉主炉室坩埚21上升的位置，并方便外部化料器7的移动、拆解和清理，连续拉晶单晶炉还包括化料器升降驱动装置和化料器旋臂18，所述底座1上设置有立柱10，所述化料器旋臂18铰接在立柱10上，所述化料器升降驱动装置连接在化料器旋臂18上，所述外部化料器7连接在化料器升降驱动装置上，以便在不继续加料时，通过化料器升降驱动装置驱动外部化料器7上升不干涉主炉室坩埚21上升的位置；和化料器升降驱动装置及外部化料器7随化料器旋臂18一起转动。

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单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1　引　言半导体材料是半导体工业的基础材料 ,其中用量和用途广泛的是半导体硅。当今 95%以上的半导体器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成电路是硅集成电路 ,生产集成电路所需要的单晶硅 ,是在硅结晶生长开始时 ,用提拉的办法制成的。在单晶硅生产过程中 ,对晶体的提拉速度有十分严格的要求 ,从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。图 1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器 ,再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中 ,要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度 V向上 (下 )运动 ,而且当提拉负载增大引起线速度为零时 ,提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。在实际单晶炉中 ,对提拉控制系统提出的主要技术指标是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范围之内实现无级可调 ,线性精度大于± 2 %