固体颗粒研磨分散机，超细剪切分散设备，浆料纳米研磨分散机

固体颗粒研磨分散机，超细剪切分散设备，浆料纳米研磨分散机是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现 “ 令人满意的 ” 精细分布。   超细剪切分散设备，浆料纳米研磨分散机，管线式膏霜分散机，高速高剪切分散机，固液悬浮液超微细分散机，超细分散进口分散机

固体颗粒分散到一种液体中时，形成一种悬浮液。当一种液体分散到另一种液体中时，形成一种乳浊液。在一种乳浊液的两个液相间的界面处，表面张力开始发生作用 。新表面的产生需要能量。在没有外部影响的情况下，每个液相体系均企图以较少的能量达到乳浊液状态。因此，总是会有产生较小界面的倾向，这阻碍任何乳浊液的形成。  分层     沉淀    等等    为什么呢    他们不是超细分散。

为了达到的能量输入，IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下，我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露？主轴会不会偏振的很厉害，定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点，也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。

IKN连续式分散机与传统的批次式分散机相比：

（1）分散效率更高。批次式分散机在进行分散前往往还需要预搅拌，在其基础上才能实现较好的分散混合的效果，因此所需时间更多，产量较少，适用于不连续生产或产量较小的情况；而连续式分散机则可以直接进行投料，更短时间内能够实现混合液的粒径要求，产量更大，，适用于连续生产，产量大的情况。

（2）分散效果更好。批次式分散机安装在罐体内，物料与分散头距离松散，工作时依靠强大的吸力迫使物料进入分散头中，但分散过程中仍存在部分物料逃逸情况，混合分散后粒径分布较宽，此外批次式分散机一般仅为单层分散头结构，不能实现足够小的粒径要求；而连续式分散机由于分散腔内部设计空间更小。分散头与物料接触密切，剪切chong分，分散腔内设计成多层定转子咬合结构，优化了粗细齿形结构，可使混合分散后的粒径分布较窄，效率更高。

（3）技术功能指标更好。CMSD2000系列产品与批次式产品比较在相同的马达情况下，转速有明显优势，具有相对节能gao效的优点，可以在更短时间内处理更多符合要求的物料产品，能够为大批量生产的企业实现生产过程中成本的降低。

IKN研磨分散机是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改装，我们将三级变跟为，然后在分散头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种分散头供客户选择）。

Ikn研磨分散机设备结构：

第yi级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表：

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%

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